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第1420章各种分析应接不暇
。。。。。。
与大众的情绪狂欢相比,科技圈、半导体产业圈内的讨论则更加专业,也充满了各种猜测与推理。
麒麟9000+就像不仅像一颗投入湖面的巨石,激起无数浪花。
还引来了深水区泛起令人捉摸不透的迷雾。
知乎上,一个名为“如何评价华兴麒麟9000+芯片?其工艺制程可能是什么水平?”的问题,迅速攀升至热榜第一,浏览量破千万。
高赞回答来自一个匿名的、标注为“半导体行业从业者”的用户,回答极其冗长且专业:
“谢邀。人在浦东,刚出实验室。
看了发布会,震惊之余,尝试从技术角度做一点推测。
首先必须明确,华兴在发布会上关于芯片工艺的信息是‘零’。
这本身就是一种信号:要么工艺是绝密,要么工艺并非传统意义上的领先,但通过其他方式弥补达到了惊人效果。”
“根据姚尘风姚总公布的性能数据:CPU同频性能提升8%,GPU提升15%,能效比提升25%。
这个数据非常有意思。
如果这是一颗全新的、基于更先进工艺的芯片,比如5nmEUV迭代的芯片,那这种提升幅度似乎。。。有点保守?
尤其是CPU部分。
但如果考虑到他们可能面临的工艺限制,这个提升就堪称恐怖了。”
“我们来倒推。
假设他们使用的并非最先进的EUV光刻机所能实现的5nm或更先进制程,那么可能的选择有哪些?
1。基于DUV光刻的7nm(N7)或改进型(N7P,N6)。
但众所周知,没有EUV,多重曝光非常复杂,良率和成本是巨大挑战,且性能功耗很难做到顶级。
2。完全不同的技术路径,比如Chiplet(小芯片)异构集成,或者对成熟工艺(如14nm甚至28nm)进行极端优化,通过架构、封装、软件协同来提升性能。”
“我个人倾向于一种混合路线。
结合华兴过去几年在EDA(电子设计自动化)工具、架构设计(冯庭波团队)、以及工艺-设计协同(孟良凡的联合体)上的大量专利和投入,他们很可能走了一条‘以设计补工艺、以系统补芯片’的道路。”
回答详细分析了华兴可能采用的“近似7nm”工艺,并重点强调了设计端的补偿:
“比如,通过更精细的电源管理单元(PMU)设计,动态调整电压频率,榨干每一分性能;
通过超大规模的缓存设计,减少对落后工艺下延迟较高的外部存储的访问;
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