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第806章 不配拥有名字的大CPU求订（第3页）

连续数日的飘飘细雨，令整个申城仿佛都蒙上了一层薄雾。

是较为难受的回潮天。

当然，这也是相对的。

像是方总就感受不到这天气带来的难受与黏腻。

眨眼便已经是3月下旬。

在周一的下午，上完了今日课程的方总走进了前沿办公室，背着双手站在窗前看着外面淅淅沥沥的雨雾。

颇有种闲情逸致的味道。

“……”

好片刻后，温叶才凑上来打破这种安静：“方总，您要不现在听听汇报？”

没错，方年之所以会走进前沿办公室的门，是温叶喊来的。

方年轻轻点头。

温叶清了清嗓子：“是这样的，白泽那边已经完成了服务器CPU的流片验证工作，第一款测试级的服务器CPU可用。”

闻言，方年回头看了眼温叶，走回了工位：“仔细说说，我记得这个月应该有不少项目完工。”

见状，温叶翻开文件夹，有条不紊的汇报起来。

“这款服务器CPU采用了CB12指令架构，包含最新的Ex64指令集，在‘未竟’架构的基础上借鉴了部分‘初’架构，合理的设计了8个核心，采用中芯40纳米制程流片而成；

仅流片了一次，便成功通过实际验证；

不过各方面性能并不是很亮眼，但根据相关测试，大CPU项目组认为这样一款CPU，可以提供足够丰富的实测数据……”

听温叶停顿下来，方年晃晃手：“都说完吧。”

温叶轻轻点头，继续往下说：“上周五，贵阳数据中心一期土建工程通过验收，已经可以开始服务器机组的安装调试工作。”

“……”

“上周四神龙211流片通过，神龙511流片通过，性能不达标，在调整后将进行第二次流片……”

“……”

“晶圆测试线月初正式启动了试生产，光刻机的良率、稳定性等十分不理想，需要进行一定的调整；

据汇报，有望在下月进行65纳米制程试生产。”

似乎知道方年会有疑惑，说到这里，温叶特地补充了几句：“DUV浸入式光刻实际上一直可以支持到7纳米制程的光刻；

根据晶圆试验线的负责教授解释：

传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。

又根据一个瑞利公式：CD=K1×（λNA），降低波长λ，提高镜头的数值孔径NA，降低综合因素K1，即可不断演进光刻制程。

DUV激光光源从90年代末至今就一直是停滞在193nm波长；

不过有人提出了新的方案，一个工程上很简单的办法，在晶圆光刻胶上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波长折射成134nm，再做到半周期65nm；

总之……

晶圆实验室的教授很有信心保证能在较短时间内突破至65纳米光刻，之后可能会漫长一点，但也不会是太久远的事情。”

一口气照本宣科的说完，温叶并未多停顿，继续解释。