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第346章 半导体产业链研究项目不断推进(第1页)

“魏院士这边研究进展很快,后续会有专业公司和您对接,尽快将技术启用,实现量产!”

对魏院士这边的研究取得的成绩,李易当然感到开心。

整个半导体产业链,李易投资了数百亿资金进去了。

此外,还和国家集成电路大基金有重叠。

半导体是国家重点扶持的项目。

出了研究成果,都不应李易去考虑推广。

官方也会牵线搭桥,将相关的技术利用起来。

当然,这些技术突破,有些是需要使用全新的技术和工艺。

也需要魏院士这边的团队提供技术支持。

目前取得的技术突破,只是整个电子特气其中部分。

还有许多技术需要攻克。

同时,还需要提高纯度,用在更高精度的芯片制造上。

实验室的技术,和量产应用,肯定不同。

此外,目前的技术突破,只可以说……还需要不断提升、升级、优化。

半导体产业的升级换代太快了!!

这方面的技术有了突破,魏院士也带着团队,不断进行升级优化。

“光刻胶团队也有技术突破……只能说,星海科技的人工智能技术辅助,大大加快了整个研究进展。”

“特别是材料领域的研究,有人工智能技术的加持,效果确实超乎想象!”

魏院士旗下的光刻胶项目的研究,也取得突破了。

而且还是EUV光刻胶。

光刻胶可分为半导体光刻胶、平板显示光刻胶和pcb光刻胶。

其技术壁垒依次降低。

其中半导体光刻胶国产技术和国外先进技术差距最大。

目前市场主流还是:KrF、ArF为主流。

根据世界半导体产业数据,高端ArF干式和浸没式光刻胶共占42%的市场份额。

KrF光刻胶和g线i线光刻胶各占22%和24%的市场份额。

目前,ArF光刻胶是集成电路制造领域,需求量最大的产品。

芯片半导体这么快的发展速度,ArF和KrF光刻胶面临广阔的市场机遇。

而KrF光刻胶主要用于8寸晶圆,248nm的品种。

ArF光刻胶主要用于12寸晶圆,193nm的品种。

EUV光刻胶,主要用于12寸晶圆,而且是13。5nm的品种。

目前,EUV光刻胶还不算是主流。

但未来……肯定是EUV光刻胶才是主流。

李易让研究团队主要攻关的项目,就是半导体——EUV光刻胶。

半导体光刻胶技术壁垒最高、最大、最难!

EUV光刻胶目前还不是主流,却是未来!

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